納米氧化鉍高剪切分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布更窄。
納米氧化鉍高剪切分散機(jī)
三氧化二鉍納米粉體可以很好的分散于極性烴類溶劑中如 NMP (N-甲基吡咯烷酮) 、PMA (丙二醇甲醚醋酸酯)；非極性溶劑中如：礦物油；同時(shí)也可以分散于質(zhì)子性溶劑中如:alkoxyethers,分散時(shí)可達(dá)50%的濃度。
三氧化二鉍納米有機(jī)溶劑分散體，可確保應(yīng)用于各種有機(jī)溶劑體系，具有廣泛的適用性與易用性。
納米氧化鉍有什么應(yīng)用
納米氧化鉍主要用于化工行業(yè)（如化學(xué)試劑、鉍鹽制造等）、玻璃行業(yè)（主要用于著色）、電子行業(yè)（電子陶瓷等）以及其他行業(yè)（如防火紙的制造、核反應(yīng)堆燃料等）。其中，電子行業(yè)是氧化鉍應(yīng)用*廣的行業(yè)，主要用在壓敏電阻、熱敏電阻、氧化鋅避雷器以及顯象管等領(lǐng)域。如果從材料來分，氧化鉍主要用于電子陶瓷粉體材料、電解質(zhì)材料、光電材料、高溫超導(dǎo)材料、催化劑等。電子陶瓷粉體材料電子陶瓷領(lǐng)域是氧化鉍應(yīng)用的一個(gè)成熟而又充滿活力的領(lǐng)域。氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑，純度一般要求在99.5%以上。主要應(yīng)用對象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類。
納米氧化鉍分散用什么分散機(jī)
納米氧化鉍要得到好的應(yīng)用需要兩個(gè)方面：一是提高生產(chǎn)工藝和設(shè)備，細(xì)度要求很高（D＜50nm）；二是在分散時(shí)需要分散均勻，防止納米顆粒抱團(tuán)；上海依肯高剪切分散機(jī)XRS2000是國產(chǎn)分散機(jī)**的選擇。
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
GRS2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GRS2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
納米氧化鉍高剪切分散機(jī)
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 氧化鉍高剪切分散機(jī) 實(shí)驗(yàn)室分散機(jī) 剪切分散機(jī)
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