藥用輔料硬脂酸鎂分散機，硬脂酸鎂研磨分散機，水溶性淀粉研磨分散機，硬脂酸鎂高速分散機，硬脂酸鎂高剪切研磨分散機，硬脂酸鎂管線式分散機，硬脂酸鎂進口研磨分散機，硬脂酸鎂衛(wèi)生級研磨分散機，硬脂酸鎂在線式研磨分散機
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SGN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。
硬脂酸鎂為白色輕松無砂性的細粉；微有特臭；與皮膚接觸有滑膩感。本品在水、乙醇中不溶，主要用作潤滑劑、抗粘劑、助流劑。特別適宜油類、浸膏類藥物的制粒，制成的顆粒具有很好的流動性和可壓性。在直接壓片中用作助流劑。還可作為助濾劑、澄清劑和滴泡劑，以及液體制劑的助懸劑、增稠劑。
GMSD2000模塊主要由兩層分散頭構成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產(chǎn)對于粒徑的要求。
藥用輔料硬脂酸鎂分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第2級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是zhi定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗zhi定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
GMSD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMSD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
GMSD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMSD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
產(chǎn)品相關關鍵字： 水溶性淀粉研磨分散機 硬脂酸鎂研磨分散機 硬脂酸鎂高速分散機
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