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  • GMD2000/4無(wú)機(jī)材料納米級(jí)濕法研磨設(shè)備
    無(wú)機(jī)材料納米級(jí)濕法研磨設(shè)備

    無(wú)機(jī)材料納米級(jí)濕法研磨設(shè)備的特點(diǎn) 1更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證. 2 新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

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  • GMD2000/4石墨烯超細(xì)研磨分散機(jī)
    石墨烯超細(xì)研磨分散機(jī)

    石墨烯超細(xì)研磨分散機(jī)GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供

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  • GMD2000/4納米級(jí)德國(guó)高速樹脂研磨分散機(jī)
    納米級(jí)德國(guó)高速樹脂研磨分散機(jī)

    納米級(jí)德國(guó)高速樹脂研磨分散機(jī)的特點(diǎn): 1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。 2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。 3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

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  • GMD2000/4管線式濕法研磨分散機(jī)
    管線式濕法研磨分散機(jī)

    管線式濕法研磨分散機(jī)的特點(diǎn) 1更穩(wěn)定采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證. 2新結(jié)構(gòu)通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目. 3更可靠采用整體式機(jī)械密封,*上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.

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  • GMD2000管線式電子廢液研磨分散機(jī)
    管線式電子廢液研磨分散機(jī)

    【GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機(jī)列的特點(diǎn)】 ①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。 ②該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。 ③三級(jí)研磨分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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  • GMD2000管線式石墨烯研磨分散機(jī)
    管線式石墨烯研磨分散機(jī)

    GMD2000系列管線式石墨烯研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 石墨烯研磨分散機(jī)在設(shè)計(jì)上的突出特點(diǎn):

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